低温等离子体可以将气体分子离解或分解成化学活性成分,金属附着力强树脂后者与基底固体表面发生反应,产生挥发性物质,然后被真空泵抽走。通常有四种材料必须刻蚀:硅(杂硅或非杂硅)、电介质(如SiO2或SiN)、金属(通常是铝、铜)和光刻胶。每种材料的化学性质都不同。低温等离子体腐蚀是一种各向异性腐蚀工艺,可以保证腐蚀图案的准确性、特定材料的选择性和腐蚀效果的均匀性。等离子体刻蚀与活性基团同时发生物理刻蚀。
自然氧化膜的厚度约为0.6nm,金属附着力强树脂与NH4OH和H2O2的浓度或清洗液的温度无关。 SC-2是由H2O2和HCL组成的酸性溶液,具有很强的氧化性和络合性,能生成未氧化的金属和盐类。用去离子水洗涤后,CL产生的可溶性络合物也被除去。 RCA清洗工艺负荷大,环镜实际操作危险,工艺复杂,清洗时间长,生产效率低。长时间浸泡在清洗溶剂中时,硅晶片往往会变质。
常见的DBD介质阻挡等离子清洗机的电极结构主要有几种,对金属附着力好的基团材料主要可分为基础电极结构、圆柱电极结构、沿面电极结构三种,我们先来看一下基础电极结构,下图是基础电极结构中较为传统和简单的。常被用作材料表面改性和臭氧发生器,金属电极可提高放电产生热量的传递速度。等离子体放电在两介质层之间进行,等离子体能够避免与金属电极直接接触。
随着高科技产业的快速发展,金属附着力强树脂等离子体清洗的应用越来越广,目前已广泛应用在电子工业、半导体行业和光电行业等高科技领域。。金属等离子表面处理机对金属的表面处理应用:等离子表面处理机是利用等离子体中高能粒子和活性粒子对金属表面进行轰击或激活反应,以达到去除污物的目的。